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离子交换混床为深度脱盐设备,用于制造高纯水,产水电阻率为10-18MΩ/CM(25℃),二氧化硅含量(SiO2)≤0.02mg/L。混床分为单、双床、抛光床,双床可一用一备,(不影响出产用水的继续性);可串联使用,以